Tantalum Sasaran

Deskripsi
Target tantalum, juga dikenal sebagai target tantalum sputtering, memberikan kinerja proses yang konsisten dan direproduksi dengan ketebalan tinggi keseragaman. Penghapusan tekstur banding selama fabrikasi menghasilkan mikro seragam, yang memberikan peningkatan stabilitas awal kehidupan dan kinerja menggerutu konsisten-melalui-hidup.
Untuk target tantalum, kami fokus pada menawarkan pelanggan kami dengan kemurnian tinggi mulai dari 3N ke 5N, ukuran butir halus dan seragam, penghapusan tekstur banding yang kuat, dan sasaran awal stabilitas ukuran hidup.
Kotoran logam tantalum kami target 'dan kotoran gas telah diukur oleh otoritas yang dikenal di seluruh dunia.
Selain itu, kami juga menawarkan program daur ulang direklamasi target memo.

Aplikasi
Menampilkan ketahanan korosi yang sangat baik, kekuatan suhu tinggi dan biokompatibilitas yang baik, sasaran tantalum digunakan untuk banyak aplikasi film tipis seperti bahan penghalang difusi, perangkat memori, elektroda gerbang di perangkat MOSFET, lapisan pelindung pada perangkat print head dan logam penghalang untuk perangkat kabel tembaga.

Komposisi kimia dari Tantalum Sasaran
TaNb20Ta2.5WTa10W

Kimia ppm
Deskripsi	Komponen utama		Kotoran maksimum
	Ta	Nb	Fe	Si	Ni	W	Mo	Ti	HAI	C	H	N
TA1	Sisa	300	40	30	20	40	40	20	150	40	15	20
TA2	Sisa	800	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
TaNb3	Sisa	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Sisa	170000- 230000	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Sisa	400	50	30	20	30000	60	20	150	50	15	60
Sisa	400	50	30	20	110000	60	20	150	50	15	60

Paket dan Transportasi

Kami berkemas Target tantalum dalam kasus kayu lapis dan mengirimkannya melalui laut atau udara.

Didirikan pada tahun 2008, Lantytk® Corp Refractory Metal Co, Ltd adalah produsen profesional dan pemasok target tantalum (target tantalum sputtering) di Cina. Jika produk ini minat Anda, hubungi kami.