Deskripsi
Perusahaan kami telah mengkhususkan diri dalam produksi berbagai target tungsten murni termasuk target tungsten sputtering dan sasaran anoda tungsten dalam bentuk sasaran planar dan target.
rotaryTungsten target sputtering bekerja di magnetron sputtering lapisan, yang merupakan jenis baru dari deposisi uap fisik (PVD) metode. Dan X-ray target tungsten rotary dan anoda stasioner kami menyediakan dapat menahan tegangan termal ekstrim dalam suhu lebih dari 2.000 ℃. Semua produk kami menikmati kualitas unggul dan kehidupan tahan lama.
Aplikasi
Target tungsten sputtering digunakan dalam industri semikonduktor, layar datar (TFT-LCD), industri energi surya, industri kaca-lapisan (termasuk kaca arsitektur, kaca otomotif, film optik kaca dll), rekayasa permukaan (dekoratif dan toolings), magneto media optik perekaman, mikro-elektronik, pencahayaan otomotif, dan dekoratif coating.etc.
Target tungsten anoda digunakan dalam tabung x-ray untuk aplikasi X-ray yang beragam.
Kami dapat menawarkan kemurnian tinggi target tungsten planar dan target berputar tungsten dengan ukuran butir halus dan kemurnian tinggi untuk Anda berdasarkan kebutuhan spesifik Anda.
Keuntungan dari Pure Tungsten Sasaran
Kami dapat menawarkan satu set lengkap peralatan pengujian untuk sifat fisik seperti densitas, kekerasan, kekasaran permukaan dan sebagainya. Dengan demikian, cedera internal yang mungkin dari produk seperti porositas dan retak dapat benar diperiksa saat menggunakan tester arus eddy dan peralatan ultrasonik sehingga untuk memastikan kualitas tinggi dari target tungsten murni.
Sifat Tungsten Sasaran Murni
Kemurnian, kepadatan dan struktur mikro memiliki efek yang menentukan pada target tungsten murni. Dan kami dapat memberikan target tungsten seperti yang kemurnian setidaknya 99,95% dengan kandungan pengotor yang diinginkan. Dengan kepadatan tinggi, itu akan menunjukkan tingkat yang sangat tinggi dari konduktivitas dan menghemat waktu untuk kecepatan sputtering yang sangat baik. Dengan mikro homogen, itu akan memiliki erosi seragam dalam proses sputtering.
Perhatian
Ketika memilih target tungsten murni, Anda harus membayar banyak perhatian untuk kemurnian yang tinggi, kepadatan maksimum dan mikro homogen.
Kemasan dan Transportasi
