Semikonduktor Ion Implantasi

Implantasi ion, mirip dengan proses pelapisan, adalah pendekatan teknologi tinggi untuk memodifikasi sifat permukaan bahan. Tapi itu tidak melibatkan penambahan lapisan di permukaan. Implantasi ion awalnya dikembangkan untuk aplikasi semikonduktor, dan menggunakan balok sangat energik ion (atom bermuatan positif) untuk memodifikasi struktur permukaan dan kimia bahan pada suhu rendah. Tentu saja, proses tersebut tidak mempengaruhi dimensi komponen atau sifat material massal.

1. Menampilkan konduktivitas termal yang tinggi, kekuatan bahan, ketahanan korosi dan kemurnian mutlak, paduan tungsten dan molibdenum paduan bekerja dengan baik, memastikan bahwa ion dihasilkan secara efisien dan bebas dari impurities.
2. Dalam peralatan implantasi ion, paduan tungsten dan paduan molybdenum secara luas digunakan untuk ruang busur, filamen, katoda dan suku cadang lainnya.