Tântalo Alvo

Descrição
Alvos de tântalo, também conhecidos como alvos de tântalo pulverização catódica, proporcionar um desempenho processo consistente e reproduzível com uniformidade de alta espessura. A eliminação da textura bandas durante a fabricação produz uma microestrutura uniforme, o que proporciona melhor estabilidade no início da vida e desempenho sputter-through de vida consistente.
Para alvo de tântalo, vamos nos concentrar em oferecer aos nossos clientes com altas purezas que variam de 3N a 5N, tamanho de grão fino e uniforme, a eliminação de textura forte bandas, e alvo cedo estabilidade em tamanho natural.
Impurezas metálicas nossas metas de tântalo »e impurezas gasosas foram medidas por parte das autoridades conhecidos em todo o mundo.
Além disso, nós também oferecemos programa de reciclagem de sucata recuperada alvos.

Aplicação
Apresentando uma excelente resistência à corrosão, resistência a alta temperatura e uma boa biocompatibilidade, alvo de tântalo é usado para muitas aplicações de película fina tal como um material de barreira de difusão, dispositivos de memória, um eléctrodo de porta em dispositivos MOSFET, um revestimento de protecção sobre os dispositivos de cabeça de impressão e de barreira de metal para dispositivo de fiação de cobre.

Composição Química de tântalo Alvo
TaNb20Ta2.5WTa10W

Ppm Química
Descrição	Principal componente		Máximo de impurezas
	Ta	Nb	Fe	Si	Ni	W	Mo	Ti	O	C	H	N
TA1	Restante	300	40	30	20	40	40	20	150	40	15	20
Ta2	Restante	800	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
TaNb3	Restante	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Restante	170000- 230000	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Restante	400	50	30	20	30000	60	20	150	50	15	60
Restante	400	50	30	20	110000	60	20	150	50	15	60

Pacote e Transporte

Nós embalamos alvo de tântalo em caso de compensados ​​e enviá-los por mar ou ar.

Fundada em 2008, Lantytk® Corp é um profissional fabricante e fornecedor de tântalo alvo (alvos de tântalo sputtering) na China. Se este produto que lhe interessa, basta contactar-nos.