Tantalio target

Descrizione
Obiettivi tantalio, noto anche come bersagli tantalio sputtering, offrono prestazioni processo coerente e riproducibile con uniformità alto spessore. L'eliminazione di struttura banding durante la fabbricazione produce una microstruttura uniforme, che offre una migliore stabilità prime fasi di vita e le prestazioni sputtering costante-attraverso-vita.
Per bersaglio tantalio, ci concentriamo su di offrire ai nostri clienti di alta purezze che vanno da 3N a 5N, granulometria fine ed uniforme, l'eliminazione di forte struttura banding, e primo obiettivo la stabilità a grandezza naturale.
Impurità metalliche nostri obiettivi tantalio 'e impurità gassose sono state misurate dalle autorità noti in tutto il mondo.
Inoltre, offriamo anche il programma di riciclaggio dei rottami bonificati obiettivi.

Applicazione
Caratterizzato eccellente resistenza alla corrosione, ad alta resistenza di temperatura e buona biocompatibilità, porta tantalio è utilizzato per molte applicazioni a film sottile, come un materiale di barriera di diffusione, dispositivi di memoria, un elettrodo di gate in dispositivi MOSFET, un rivestimento protettivo su dispositivi testina di stampa e barriera metallica per dispositivo cavi in ​​rame.

Composizione chimica del tantalio target
TaNb20Ta2.5WTa10W

Chimica ppm
Descrizione	Componente principale		Le impurità massimo
	Ta	Nb	Fe	Si	Ni	W	Momento	Ti	O	C	H	N
Ta1	Resto	300	40	30	20	40	40	20	150	40	15	20
TA2	Resto	800	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
TaNb3	Resto	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Resto	170000- 230000	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Resto	400	50	30	20	30000	60	20	150	50	15	60
Resto	400	50	30	20	110000	60	20	150	50	15	60

Pacchetto e trasporti

Imballiamo bersaglio tantalio in caso di compensato e li trasmetteremo da mare o aereo.

Fondata nel 2008, Lantytk® Corp refrattario Metal Co., Ltd. è un produttore professionista e fornitore di bersaglio tantalio (tantalio obiettivi sputtering) in Cina. Se questo prodotto ti interessa, non esitate a contattarci.