Descripción
Nuestra empresa se ha especializado en la producción de diversos objetivos de tungsteno puros incluyendo blancos de pulverización de tungsteno y de destino ánodo de tungsteno en forma de objetivo planar y target.
rotatorioBlancos de pulverización de tungsteno se emplean en el recubrimiento de pulverización catódica con magnetrón, que es un nuevo tipo de método de deposición física de vapor (PVD). Y los objetivos de tungsteno de rayos X rotativos y estacionarios ánodos que suministramos pueden soportar el estrés térmico extremo en temperaturas de más de 2000 ℃. Todos nuestros productos gozan de una calidad superior y la vida duradera.
Solicitud
Blancos de pulverización de tungsteno se utilizan en la industria de semiconductores, pantallas planas (TFT-LCD), la industria de la energía solar, la industria del vidrio-recubrimiento (incluyendo vidrio arquitectónico, vidrio automotriz, vidrio película óptica, etc.), ingeniería de superficies (decorativo y utillajes), magneto medios ópticos de grabación, la microelectrónica, la iluminación del automóvil, y decorativo coating.etc.
Objetivos ánodo de tungsteno se utilizan en tubos de rayos X para aplicaciones de rayos X diversas.
Podemos ofrecer alta pureza objetivos planas de tungsteno y los objetivos que giran tungsteno con tamaño de grano fino y de alta pureza para usted basado en sus necesidades específicas.
Ventajas de tungsteno puro Target
Estamos en condiciones de ofrecer un conjunto completo de equipos de prueba para las propiedades físicas como la densidad, dureza, rugosidad de la superficie y así sucesivamente. En consecuencia, la posible lesión interna del producto similar porosidad y la grieta se puede estrictamente inspeccionados durante el uso del probador de corriente de Foucault y el equipo de ultrasonidos con el fin de garantizar la alta calidad del objetivo de tungsteno puro.
Propiedades del destino de tungsteno puro
Pureza, densidad y microestructura tienen un efecto decisivo en el objetivo de tungsteno puro. Y somos capaces de proporcionar tales objetivos tungsteno cuya pureza es al menos 99,95% con contenido de impurezas deseado. Con alta densidad, se mostrará un nivel particularmente alto de la conductividad y el ahorro de tiempo por sus excelentes velocidades de pulverización. Con una microestructura homogénea, tendrá la erosión uniforme en el proceso de pulverización catódica.
Atención
Al seleccionar objetivos de tungsteno puro, se debe prestar mucha atención a su alta pureza, la máxima densidad y microestructura homogénea.
Embalaje y Transporte
