Tantal Target

Beskrivelse
Tantal mål, også kendt som tantalkatodeforstøvningsmål, giver ensartet og reproducerbar proces ydeevne med høj tykkelse ensartethed. Elimineringen af ​​tekstur banding under fabrikation producerer en ensartet mikrostruktur, der leverer forbedret tidlige liv stabilitet og konsekvent-through-life sputter ydeevne.
For tantal mål har vi fokus på at tilbyde vores kunder med høje renheder spænder fra 3N til 5 N, fin og ensartet kornstørrelse, eliminering af stærk tekstur banding, og tidlig mål liv størrelse stabilitet.
Vores tantal målenes metalliske urenheder og gasformige urenheder er blevet målt ved hjælp af kendte myndigheder overalt i verden.
Desuden tilbyder vi også program for genanvendelse regenereret skrot mål.

Anvendelse
Med fremragende korrosionsbestandighed, høj temperatur styrke og god biokompatibilitet er tantal mål bruges til masser af tynd film applikationer såsom en diffusionsbarriere materiale, hukommelsesenheder, en gate elektrode i MOSFET enheder, en beskyttende belægning på printhovedet enheder og barriere metal til kobber ledninger enhed.

Kemiske sammensætning af tantal Target
TaNb20Ta2.5WTa10W

Kemi ppm
Beskrivelse	Chief komponent		Maksimal urenheder
	Ta	Nb	Fe	Si	Ni	W	Mo	Ti	O	C	H	N
TA1	Resten	300	40	30	20	40	40	20	150	40	15	20
TA2	Resten	800	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
TaNb3	Resten	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Resten	170000- 230000	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Resten	400	50	30	20	30000	60	20	150	50	15	60
Resten	400	50	30	20	110000	60	20	150	50	15	60

Pakke og Transport

Vi pakker tantal target i krydsfiner sag og sende dem af hav eller luft.

Etableret i 2008, Lantytk® Corp Ildfaste Metal Co, Ltd er en professionel producent og leverandør af tantal mål (tantalkatodeforstøvningsmål) i Kina. Hvis dette produkt interesserer dig, bare kontakte os.