코팅 공정과 유사한 이온 주입은, 재료의 표면 특성을 수정하기위한 첨단 기술 접근 방식입니다. 그러나 표면 층의 첨가를 포함하지 않는다. 이온 주입은 원래 반도체 애플리케이션을 위해 개발되고, 또한 저온에서의 표면 구조 및 재료의 화학적 성질을 변경하는 이온 (양전하 원자)의 고 에너지 빔을 사용한다. 물론, 이러한 과정은 부정적인 요소 치수 또는 대량 재료의 특성에 영향을주지 않습니다.
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열전 도성이 높은 재료 강도, 내식성과 절대 순도 특징 1. 우리의 텅스텐 합금 몰리브덴 합금 이온 impurities. 에서 효율적이고 자유로운 생성되는 것을 보장 잘 작동이온 주입 장치, 텅스텐 합금, 몰리브덴 합금 2. 널리 아크 실, 필라멘트, 캐소드 등의 부품에 사용된다.
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