タンタルターゲット

説明
また、タンタルスパッタリングターゲットとして知られているタンタルターゲットは、高い膜厚均一性と一貫性と再現性のあるプロセスの性能を提供します。製造中のテクスチャバンディングの除去が向上早期寿命安定性と一貫性のスルーライフスパッタ性能を提供し、均一な微細構造を生成します。
タンタルターゲットのために、私たちは3Nから5N、微細で均一な結晶粒度、強力なテクスチャバンディングの除去、および初期の目標寿命の寸法安定性に至るまで、高純度をお客様に提供することに焦点を当てています。
私たちのタンタルターゲットの金属不純物やガス状不純物が世界中に知ら当局によって測定されています。
加えて、我々はまた、リサイクル再利用スクラップターゲットのプログラムを提供しています。

アプリケーション
優れた耐食性、高温強度と優れた生体適合性を特色に、タンタルターゲットは、このような拡散バリア材料、メモリデバイス、MOSFETデバイスにおけるゲート電極、プリントヘッド装置及びバリアメタル上に保護コーティングのための薄膜の用途の多くに使用され銅配線装置。

タンタルターゲットの化学組成
TaNb20Ta2.5WTa10W

化学PPM
説明	主成分		不純物の最大
	Taの	Nb	鉄	シ	ニッケル	W	モー	チタン	O	C言語	H	N
TA1	残り	300	40	30	20	40	40	20	150	40	15	20
TA2	残り	800	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
TaNb3	残り	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
残り	170000- 230000	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
残り	400	50	30	20	30000	60	20	150	50	15	60
残り	400	50	30	20	110000	60	20	150	50	15	60

パッケージと交通

我々は、合板ケースにタンタルターゲットをパックし、海や空気によってそれらを送ります。

2008年に設立され、ShanghaiLantytk®耐火金属有限公司は、中国のタンタルターゲット（タンタルスパッタリングターゲット）の専門メーカーとサプライヤーです。この製品はあなたに興味のある場合は、お気軽にお問合せください。