Tantal Ziel

Beschreibung
Tantal-Targets, die auch als Tantal-Sputtertargets bekannt, gleichbleibende und reproduzierbare Prozessleistung mit hoher Gleichmäßigkeit Dicke. Die Beseitigung der Textur Streifenbildung während der Herstellung erzeugt eine gleichmäßige Mikrostruktur, die eine verbesserte Frühstabilität und konsequente Durchleben Sputter-Leistung liefert.
Für Tantaltargets konzentrieren wir uns auf unsere Kunden mit hohen Reinheiten im Bereich von 3 N bis 5 N, feine und gleichmäßige Korngröße, die Abschaffung der starke Texturkanten, und Anfang der Ziellebensgröße Stabilität bieten.
Unsere Tantal-Ziele "metallische Verunreinigungen und gasförmigen Verunreinigungen durch bekannte Behörden auf der ganzen Welt gemessen.
Außerdem bieten wir auch Programm der Wiederverwertung zurückgewonnen Schrott Ziele.

Anwendung
Mit hervorragender Korrosionsbeständigkeit, Hochtemperaturfestigkeit und eine gute Biokompatibilität wird Tantaltargets für Lose Dünnschichtanwendungen wie beispielsweise ein Diffusionsbarrierematerial, Speichervorrichtungen, eine Gate-Elektrode in MOSFET-Bauelementen, eine Schutzbeschichtung auf der Druckkopfvorrichtungen und Sperrmetall verwendet Kupferkabel Gerät.

Chemische Zusammensetzung der Tantaltargets
TaNb20Ta2.5WTa10W

Chemie ppm
Beschreibung	Hauptkomponente		Verunreinigungen maximal
	Ta	Nb	Fe	Si	Ni	W	Mo	Ti	O	C	H	N
Ta1	Rest	300	40	30	20	40	40	20	150	40	15	20
Ta2	Rest	800	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
TaNb3	Rest	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Rest	170000- 230000	100	100	50	200	200	50	200	100	15	100
Rest	400	50	30	20	30000	60	20	150	50	15	60
Rest	400	50	30	20	110000	60	20	150	50	15	60

Paket und Transport

Wir verpacken Tantaltargets in Furnierholzkasten und schickt sie durch das Meer oder Luft.

Im Jahr 2008 gegründet, Lantytk® Corp ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von Tantaltargets (Tantal-Sputtertargets) in China. Wenn dieses Produkt interessiert, kontaktieren Sie uns einfach.